Evatros C Total Sample

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  • Evatros C Total Sample

    產品描述

    Evatros C採高通量設計,至多可達48組噴嘴(Nozzle)獨立進行樣品吹滌,可依據樣品容量多寡僅行噴嘴高度調整,單一噴嘴具備五個出氣孔可100%避免溶劑附著於樣品器皿管壁之上去確保實驗準確,獨特貼心階梯式樣品架及凹槽設計可讓您即時觀測到吹滌狀況, 提供多種體積形式金屬材質Heating Block可適用於各式樣品容器,標準搭配電子式溫控系統可以加溫至80℃,有效縮減前處理時間。

    首創獨立氣體控制功能,可以進行單一樣品或是分區控制, 避免氣體浪費

    本機亦可經由電腦軟體連線操控,全自動程式控制及預估完成時間

產品-MKS